在半导体精密设备领域，这场产业浪潮更是让众多深耕多年的国内企业迎来了发展的春天。

此前，国内晶圆制造的高端光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备等长期被国外企业垄断。

设备采购价格高昂、交付周期长，还附带诸多使用限制。

此次阿美莉卡的显卡危机，让国内企业深刻认识到精密设备自主可控的重要性。

国内光刻机研发企业上微半导体宣布，将与“东大半导体产业攻坚联盟”合作，加大对28纳米沉浸式光刻机的研发投入，预计年内将完成原型机的研发与测试。

刻蚀机企业中微公司则宣布，其5纳米刻蚀机已完成客户验证，即将进入量产阶段，同时启动3纳米刻蚀机的预研工作。

值得一提的是，国内精密设备企业的研发之路，如同当初攻克OLED蒸镀机一般，走的是一条“脚踏实地、硬啃硬拼”的道路。

以上微半导体为例，其研发团队为了攻克光刻机的核心部件双工件台，买来二手进口设备拆解研究，工程师们日夜奋战，反复测试零部件的精度与稳定性。

从材料选择到结构设计，从算法优化到设备调试，每一个环节都经过上千次的试验。

最终将双工件台的定位精度控制在2纳米以内，远超国际同类产品的水平。

上微半导体的负责人在接受采访时感慨：“半导体设备的研发，没有捷径可走，唯有沉下心来，啃下每一个技术硬骨头，才能实现真正的自主创新。”

“阿美莉卡的困境告诉我们，依赖别人的设备，永远只能处于产业下游，唯有自己掌握核心技术，才能在国际竞争中拥有话语权。”

除了显卡与半导体核心领域，东大科技企业在人工智能、云计算、航空航天、高端制造等多个领域也同步发力，形成了“多点开花、全面突破”的发展态势。

国内人工智能龙头企业深脑科技宣布，将与星海科技深度合作，基于星云X100显卡打造东大自主的人工智能训练平台。

同时启动大语言模型、计算机视觉等核心算法的自主研发，摆脱对国外人工智能框架的依赖。